本文標(biāo)題："反射光強(qiáng)度也跟研磨品質(zhì)有關(guān),光學(xué)儀器知識(shí)"
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反射光強(qiáng)度也跟研磨品質(zhì)有關(guān),光學(xué)儀器知識(shí)
可能造成光損耗變大的制程原因有
(1)鈦擴(kuò)散制程時(shí)氧化鋰外擴(kuò)散形成表面波導(dǎo)。
(2)黃光制程蝕刻鈦條不良或 Y 分支顯影不夠造成光的散射。
(3)緩衝層薄膜品質(zhì)不佳造成傳播損耗變大。但從光波導(dǎo)紅光輸出影像中我們并沒有發(fā)現(xiàn)
表面波導(dǎo)的形成，
而在曝光顯影時(shí)我們依照判斷圖樣測(cè)試條件并且在顯微鏡下觀察，曝光顯影條件均在控制之內(nèi)，
所以我們歸因于緩衝層薄膜品質(zhì)不佳造成插入損耗變大
光反射損耗(Optical Return Loss)量測(cè)
無論在光通訊或是光感測(cè)的運(yùn)用光調(diào)變器通常搭配外加半導(dǎo)體雷射光
源，而光在元件中傳輸任何介面都造成光反射，反射光會(huì)延著光路返回雷
射進(jìn)入共振腔會(huì)造成雷射不穩(wěn)定，
運(yùn)用上的要求反射損耗須大于 50dB。
光反射損耗的量測(cè)方法是將光調(diào)變器輸入端接入光反射量測(cè)儀(JDSU
RM3)輸出端光纖以捲繞的方式將光漏掉，
量測(cè)結(jié)果為 顯示光纖切角處理效果良好，而反射光強(qiáng)度也跟研磨品質(zhì)有關(guān)，研磨品質(zhì)越好返射越小
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